¿Por qué elegir crisoles de tungsteno para la evaporación por haz de electrones?

La evaporación por haz de electrones (evaporación E-beam) es un método de recubrimiento crucial ampliamente utilizado en recubrimientos ópticos, fabricación de semiconductores y materiales avanzados. En un entorno de alto vacío, un haz de electrones emitido por un cañón de electrones se enfoca sobre el material objetivo, provocando que se caliente, se funda y se evapore localmente con rapidez. Los átomos de vapor se condensan sobre la superficie del sustrato para formar una película delgada y uniforme.

Si bien el haz de electrones es la principal fuente de energía en todo el proceso, el crisol es el componente clave que contiene y sostiene el material evaporado. La elección del material del crisol afecta directamente la pureza, la estabilidad y la eficiencia de evaporación de la película delgada.

El tungsteno posee un punto de fusión ultra alto (3410 °C) y se mantiene estable incluso a temperaturas extremadamente elevadas, sin deformarse. Conserva su integridad estructural en vacío y a altas temperaturas, y es resistente a la reacción con el metal fundido, lo que evita la contaminación de la película y lo convierte en el material preferido para la fabricación de crisoles.

Elegir uncrisol de tungstenoLa evaporación por haz de electrones ofrece las siguientes ventajas significativas:

Mayor pureza de la películaLa inercia del tungsteno asegura que el proceso de evaporación esté libre de contaminación química, garantizando un recubrimiento limpio.

Larga vida útilGran resistencia a la corrosión, la oxidación y el choque térmico, lo que permite su uso repetido.

Amplia gama de materiales aplicables: Adecuado para varios metales de alto punto de fusión como titanio (Ti), cromo (Cr), molibdeno (Mo), tantalio (Ta), oro (Au) y plata (Ag).

Buena estabilidad térmicaMantiene la estabilidad de su forma y rendimiento incluso bajo calentamiento y enfriamiento repetidos.

Alta eficiencia de evaporaciónSu excelente conductividad térmica garantiza una evaporación más uniforme y mejora la tasa de deposición.

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